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真空懸浮熔煉技術(shù)特點(diǎn)

1.1電磁懸浮熔煉優(yōu)點(diǎn)

(1)無(wú)坩堝污染，合金純凈;

(2)電磁攪拌燒損較小，成分均勻準確

(3)熔煉溫度高，可超過(guò)3000℃;

(4)適合活潑金屬熔煉。

真空懸浮熔煉爐的應用領(lǐng)域

(1)活潑金屬熔煉。如稀土金屬和合金Ti及其合金，鈾土、堿土金屬和合金。(2)高純金屬和合金制備。如高純靶材、鍍膜材料，太陽(yáng)能級多品硅、高純金屬等

(3)高精度成分合金及化合物制備。如金屬間化合物、微合金化材料，含彌散相材料等。

(4)高熔點(diǎn)難熔金屬及合金制備。如Cr、ZrVHfNbMoTa等難金屬和合金，Pt、Rh、Ir等貴金屬和合金。(5)科研合金制備。對材料純度、成分精度和均勻性要求高，期望排除雜質(zhì)和其它元素干擾。